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经营模式: | 生产加工 |
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唐锦仪 先生
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公司地址: | 广东省东莞市塘厦镇诸佛岭村民业街33号1栋3楼 |
发布时间:2022-05-08 02:43:21
真空镀膜加工磁控溅射技术有很多种。每个都有不同的工作原理和应用对象。但有一个共同点:磁场和电子之间的相互作用使电子在靠近目标表面的掩埋螺旋中运行,从而增加电子撞击产生离子的概率。产生的离子在电场的作用下与靶表面发生碰撞,并从靶表面飞溅出去。
在近几十年的发展中,永磁体逐渐被使用,而线圈磁体很少被使用。
目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀,且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜,非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
真空镀膜加工中环保的说明
三、与金属件结合强度高 一般强度在350-450MPa自然状态下不起皮、不脱落。即可保持金属基件原有的机械性能,又 增加了镀件的耐磨性、耐腐蚀性。
四、耐腐蚀性强 金属件经表面处理后,由于表面形成了一种非晶态镀膜层,因为无晶界,所以抗腐蚀性能 优良。例如:在5%HCI中,含P质量分数为10.9%镍磷合金镀层的耐腐蚀层比ICr18Ni9Ti不锈钢还高出10%HCI中则高出20倍以上。
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