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有机高分子镀膜设备厂家服务为先「拉奇纳米」

发布时间:2022-04-20 03:27:59        







随着科技和经济的提升,各种类型各种镀膜工艺的真空镀膜设备在不断的增加,其功能也越来越完善。

真空镀膜设备普遍应用于工业生产,在与待镀工件形成薄膜的过程中,可以地测量和控制蒸发或溅射成膜材料的膜厚,从而保证膜厚的均匀性。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。





膜层的特点:具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点、表面细腻光滑并富有金属光泽同时颜色均匀一致,大幅度提高工件的外观装饰性能。在真空室中利用弧光(或辉光)放电所产生的能量将靶材(钛等金属或合金)直接蒸发(或溅射)离化生成金属离子,并通过电场进行加速与反应气体生成金属化合物,沉积在工件表面.其可以在产品表面镀覆金***、黄铜色、香槟色、银白色、黑色、玫瑰色、古铜色、咖啡色、紫铜色、褐色、深黑色等多种美观耐用的装饰膜。


真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置,在真空室中利用电阻加热法,将紧贴在电阻丝上的金属丝(铝丝)熔融汽化,汽化了金属分子沉积于基片上,而获得光滑高反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。

真空镀膜设备,主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。


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